清洗設備是指可用于替代人工來清潔工件表面油、蠟、塵、氧化層等污漬與污跡的機械設備。

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對水體中含有的一些比重接近于水的細微籍其自重難于下沉或上浮即可采用該氣浮裝置。

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【鍋爐水處理_鍋爐水處理設備】主要是分離溶液中的離子范圍，它無需加熱，更沒有相變過程，因此比傳統(tǒng)的方法能耗低。用反滲透裝置，處理工業(yè)用水，不耗用大量酸堿，無二次污染，它的運行費用也比較低。反滲透膜分離技術，簡稱RO技術。

反滲透設備的主要用途： ⒈制取電子工業(yè)生產如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路?芯片、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水；

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化學水處理方法可以分活性污泥法、生物膜法、生物氧化塔、土地處理系統(tǒng)、厭氧生物水處理方法。