上海思峻机械设备有限公司
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产品关键词概述：沉淀活性二氧化硅研磨分散机，疏水活性白炭黑研磨分散机，高速研磨分散机，高剪切研磨分散，研磨均质一体机，分体式研磨分散机
沉淀（活性）二氧化硅=疏水（活性）白炭黑
产品特性：
疏水白碳黑是一种多孔性无定型二氧化硅，呈白色粉末状，其初生粒径为纳米颗粒，zui细之产品如SH-107的zui终粒径2～3um，它和橡胶、塑料、涂料混和后，能使产品具有各种良好的物理性能，它作为天然橡胶及人造橡胶浅色制品的良好填充剂，一方面减少橡胶的用量，降低成本，另一方面能提高橡胶制品的硬度，耐磨性，减少变形，增加耐油性；用于乳胶塑料皮革，轻质材料制品中，则易于脱膜和成型，减轻制品的重量；用于电线电缆中，能提高其绝缘性能；用于油漆油墨中，则是良好的增稠剂；用于涂料则具有极佳的耐高温性能，因而本品被广泛用于橡胶、塑料、制革、油漆、体育文化用品等行业。
（价格电议：葛经理 13761159496 QQ：3300904039 公司有样机可供客户实验！）
应用X域：
疏水白炭黑具有极高的表面活性，在某些橡胶制品中具有透明、半透明性质；特别适宜做浅色、艳色、透明、半透明橡胶制品。此外，可作为乳胶的隔离剂、油漆油墨的防沉剂、增稠剂、触变剂，各种塑料薄膜的张口剂；农药颗粒剂、分散剂；粘合剂材料和轻质材料制品以及牙膏磨料等，并可用于中高档原子灰系列产品。
技术指标：
项目 | 指标 |
二氧化硅含量%≥ | 99 |
白度 | 95 |
筛余物(45um)%≤ | 0.5 |
加热减量% | 4.0-8.0 |
灼烧减量(1000℃)%≤ | 5.0 |
PH值（10%水悬浮液） | 5.0-8.0 |
视比重（1000转/分.20分钟）(g/mL)≤ | 0.24 |
比表面积(m2/g) | 125-210（400目的为125；800目的为175；1250目的为185；6000目的为210） |
表面改性处理 | 根据客户的需要 |
上海思峻zui新研发的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。是将SGN/思峻胶体磨进行进一步的改良，在原来GM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两X模块，加入了一X分散盘。
GMD2000沉淀活性二氧化硅研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。
GMD2000沉淀活性二氧化硅研磨分散机有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，GM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。
研磨分散机的特点：
1、线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
2、定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三X锯齿突起和凹槽。
3、定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、在增强的流体湍流下，凹槽在每X都可以改变方向。
5、高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
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GMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%。
