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高精密平面研磨抛光机原理与特点
研磨抛光机，有非常多的种类的，包括有：振动研磨抛光机，磁力研磨抛光机，平面研磨抛光机，高精密平面研磨抛光机等等。今天我跟大家说一说其中的一种高精密平面研磨抛光机，我们先了解一下它的用途与原理。
高精密平面研磨抛光机主要是利用了被磨，抛材料放于研磨盘上的工作过程以达到研磨抛光目的。在整过过程中，研磨盘总是会逆时钟转动，修正轮带动工件自转，实现对工件进行施压。
它的主要用途：比较应用较多片体，LED蓝宝石衬底，导光板，模具，光纤接头等多种材料的单面研磨与抛光。
高精密平面研磨抛光机具有的特点有：
1，加压程序采用气缸加工的方式，且压力是可调整的；
2，本抛光机是采用了间隔式自动喷液装置，可以随意设置间隔的时间方式；
3，本机采用PLC程控系统，触摸操作面板，研磨的速度与时间可以在触摸屏面板上直接输入；
平面抛光机的抛光步骤及注意事项
一个好的抛光产品必须需要高X的抛光技术配合X的平面抛光机然后配合X质的抛光布。X后就是抛光程序的选择。
平面抛光机机械抛光的一般过程如下：
（1 ）粗抛经铣、电火花、磨等工艺，表面抛光机或X声波研磨机进行抛光。
（2 ）半精抛半精抛主要使用砂纸和煤油
（3 ）精抛精抛主要使用钻石研磨膏。
平面抛光机使用中要注意的问题：
（1 ）用砂纸抛光需要利用软的木棒或竹棒。因为这样可以减少对机器的损伤。
（2 ）当换用不同型号的砂纸时，抛光方向应变换 45 ° ~ 90 °。这里有一个需要注意的必须用 100 ％纯棉花沾取酒精之类的清洁液对抛光表面进行仔细的擦拭，因为一颗很小的沙砾留在表面都会毁坏接下去的整个抛光工作。从砂纸抛光换成钻石研磨膏抛光时，这个清洁过程同样重要。在抛光继续进行之前，所有颗粒和煤油都必须被完全清洁干净。
（3 ）为了避免擦伤和烧伤工件表面，需要X的抛光纸抛光时必须特别小心。
因而有必要加载一个轻载荷以及采用两步抛光法对表面进行抛光。
研磨抛光机应注意以下几点：
（1 ）这种抛光必须尽量在较轻的压力下进行特别是抛光预硬钢件和用细研磨膏抛光时。
（2 ）当使用钻石研磨抛光时，不仅是工作表面要求洁净，工作者的双手也必须仔细清洁。
（3 ）每次抛光时间不应过长，时间越短，效果越好。如果抛光过程进行得过长将会造成机器寿命过短。
