
产品介绍:
为了更方便的研究高温条件下半导体材料的导电性能,佰力博自主研发了HRMS-800高温薄膜四探针测量系统,该系统可以测量硅、锗单晶(棒料、晶片)电阻率、测定硅外延层、扩散层和离子注入层的方块电阻以及测量导电玻璃ITO和其他导电薄膜的方块电阻,该设备按照单晶硅物理测试方法X标准并参考美国A.S.T.M标准而设计的,X于高温、真空及气氛条件下测试半导体材料电学性能的X佳测量系统。
功能特点:
1、采用双电测组合测量模式,不用进行系数修正;
2、可以测量高温、真空、气氛条件下薄膜方块电阻和薄层电阻率;
3、可以分析方块电阻和电阻率随温度变化的曲线;
4、可以自动调节施加在样品的测试电压,以防样品击穿;
5、可以与美国keithley2400数字源表配套测量半导体材料;
6、可以通过USB传输数据,数据格式是Excel格式。
技术规格:
测量温度:室温---600℃;
控温精度:±1℃ ,显示精度:±0.1℃;
升温斜率:1-5°C/min;
测量精度:0.05%;
电阻率:10-5~105Ω.cm ;
电导率:10-5~105s/cm
方块电阻:10-4~106Ω/□;
电阻:10-5~105Ω;
高温四探针测试探头:
探针间距:2±0.01mm;
探针压力:0~2kg可调;
针间绝缘材料:99陶瓷或红宝石;
针间绝缘电阻:≥1000MΩ;
真空度:10Pa(标配),高真空另选;
可测半导体材料尺寸:薄膜直径15-30mm,厚度小于4mm;
Keithley2400源表测量范围:
源电压:5μV-210V,测量电压:1μV to 211V;
源电流:50ρA to 1.055A;
测量电阻:100mΩ to 200MΩ;
X低源功率:22W
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